产品中心
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OTF1200X-5-III-F3LV is a CE certified split 5" (O.D) three-zone tube furnace, which can achieve faster heating up to 1200oC and create a different thermal gradient by adjust three zone temperature. Th 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃，并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场，可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。
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EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，结合先进的频率测量技术，进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量，作为膜厚传感器使用，与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。
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TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪，可快速精-确地测量透明或半透明薄膜的厚度，其测量膜厚范围为15nm-50um，仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm。此款测试系统理论基础为镜面反射率，并且采用光纤反射探头。仪器尺寸小巧，方便于在实验室中摆放和使用。
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TM106-LD薄膜测厚仪/层积速率显示仪的工作原理，是依据所测样品薄膜厚度的改变而导致石英晶片振荡频率改变。将所蒸发材料的密度输入到测试系统中，便可测量层积薄膜的厚度。此款测厚仪的分辨率为0.037 Å。
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GSL-1700X-SPC-2是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪，可以设定程序，精-确控制温度200ºC~1500ºC（或者1200ºC~1700ºC），样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
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GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统，它是由二路质子混气系统和高真空机组组成，其*高工作温度可达1600℃，极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精-确的混气，然后导入到管式炉内部。安装尺寸：管炉：550 x 380 x 520mm 高真空：550 x 380 x 520mm
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OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉，其通过红外灯管加热达到快速升温的效果（*大升温速率> 50°C/S），通过炉体滑动来达到快速冷却效果（*大降温速率>10°C/S）。
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1100℃双管三温区管式炉是一款CE认证的三温区双管管式炉，其外管直径11英寸，内管直径8.5英寸，在加热管一端安装有一对高真空不锈钢法兰，法兰上安装有机械压力表和阀门，三个温区都是采用30段可编程PID数字温度控制器进行温度控制，采用K型热电偶进行测温，控温精度+/- 1 ºC ，专门针对于用在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、使用时把金属箔附在内管上。
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MSK-USP-6000是一款实验型雾化干燥器，通过蒸发雾化液滴以及旋风分离工艺进行微粉的制备收集。该设备对温敏型材料具有广谱适用性，广泛应用于生物医药、纳米技术、催化剂、燃料电池以及其他电池领域。
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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉，预热炉（作用为使固体原料蒸发）和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD，方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。
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GSL-1700X-F3LV是一款CE认证的管式炉CVD系统，其真空泵采用双旋片式，混气系统采用三路浮子供气系统，*高温度可以达到1700°C，真空度可达到5x10-2 torr ，可以混合1-3种气体。
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三温区三通道混气CVD系统是一款通过CE认证的三温区管式炉CVD系统，其炉管直径为60mm,其真空泵采用双旋机械泵，混气系统为3路浮子混气系统。此高温炉烧结温度可达1700℃，真空度可达到5x10-2 torr ，可以混合1-3种气体。