产品中心
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MSK-NFES-3C是一款小型台式静电纺丝机，由流量可调注射泵、30KV高压电源、3孔喷丝头往复机构以及收集系统四部分组成，PLC触摸屏控制，操作简单方便。仪器中配备两种收集装置：3800rpm高速收集筒和X-Y移动收集平台，可用于取向和网状纤维膜的制备，应用更为广泛，可应用于生物高分子、通用高分子、预聚体纳米纤维，高分子共混物纳米纤维及各种结构功能薄膜的制备工艺中。
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OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型滑动开启式PECVD系统。此套设备配有等离子射频电源，直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）及机械泵组成。该设备模型可更新为不同类型的PECVD 系统，且设备性价比较为理想。
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VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪，配有磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
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VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪(直流普通型)，基片*大尺寸2英寸，加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材和放置样品的直径是50mm . 旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料，金靶，银，铜, 它可以与真空泵，不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍相连用。
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VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头（另有1英寸靶头可选）和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。
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VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是*新研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
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超声波喷雾器是利用超声波的能量打破液体形成几微米的颗粒大小,超声喷嘴可以使用较低的振动能量通过重力、低压空气使液体雾化。MSK-SP-01A为130W电源控制器，40kHz的超声波喷雾器，此款设备是很好的选择，可以以较低的成本为DIY喷雾热解涂层和喷雾造粒材料研究实验室使用。
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MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机采用步进电机和微处理器来控制容积泵来**输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层，并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动，以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制，以满足实验需要。
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VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。 我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 1
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OTF1200X-5-III-F3LV is a CE certified split 5" (O.D) three-zone tube furnace, which can achieve faster heating up to 1200oC and create a different thermal gradient by adjust three zone temperature. Th 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃，并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场，可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。
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GSL-1700X-SPC-2是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪，可以设定程序，精-确控制温度200ºC~1500ºC（或者1200ºC~1700ºC），样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。