产品中心
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本装置主要应用于片式基材的表面涂覆工艺，兼容狭缝挤压涂覆和刮刀涂覆两种涂覆方式。由挤压刮涂复合制膜器和柱塞泵供料装置两部分组成.需配合平面涂覆机使用。主要用于锂电池基片，OLED，太阳能光电膜和聚合物导电膜等领域。
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本装置主要应用于片式基材的表面涂覆工艺，兼容狭缝挤压涂覆和刮刀涂覆两种涂覆方式。需配合平面涂覆机和柱塞泵供料装置使用。主要用于锂电池基片，OLED，太阳能光电膜和聚合物导电膜等领域。 本装置适用科晶公司涂覆机系列：MSK-AFA-HC100
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本装置主要应用于片式基材的表面涂覆工艺，兼容狭缝挤压涂覆和刮刀涂覆两种涂覆方式。需配合平面涂覆机和柱塞泵供料装置使用。主要用于锂电池基片，OLED，太阳能光电膜和聚合物导电膜等领域。 本装置适用科晶公司涂覆机系列：MSK-AFA-SC200、MSK-AFA-ES200、MSK-AFA-SC300
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本装置主要应用于片式基材的表面涂覆工艺，兼容狭缝挤压涂覆和刮刀涂覆两种涂覆方式。需配合平面涂覆机和柱塞泵供料装置使用。主要用于锂电池基片，OLED，太阳能光电膜和聚合物导电膜等领域。 本装置适用科晶公司涂覆机系列： MSK-AFA-SC300
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本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室或样品线用于产品的工艺摸索。
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本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室或样品线用于产品的工艺摸索。 功能特点
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本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室或样品线用于产品的工艺摸索。
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本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。
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应用范围：本模头为挤压涂布机的配套产品，主要用于应用于锂电池正、负极极片涂布工艺，与挤压涂布机配合可实现连续涂布、条纹涂布、间歇涂布、网格涂布等涂布工艺。同时也适用于对一些其它类型浆料及基材的涂布工艺。涂布精度高，一致性和稳定性好，可应用于锂离子电池、FCCL、光学薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业。该模头适合实验室的工艺摸索。 产品型号：MSK-PDLF-C200 设备尺寸：约：L230mm x W40mm x H28mm（模头组装尺寸，不含配件） 重量：约 1.7Kg