产品中心
-
OTF-1200X-50S-PE是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。
-
双炉体滑动PECVD系统是一款双炉体滑动的PECVD系统，并且连接有循环手套箱。此款设备中石英炉管与一循环手套箱相连接，允许客户用CVD方法把样品制作好以后，直接把样品移入到气氛保护环境下的手套箱中。炉体采用滑动式，可在室验中对样品进行快速加热和快速冷却。此款仪器特别适合新一代纳米材料和二维晶体材料的探索研究。
-
1000℃小型开启式管式炉是一款小型开启式管式炉，其*高工作温度可达到1000℃，炉管可以选用直径为100mm或130mm的石英管，并且可配一套不锈钢密封法兰（上面安装有不锈钢截止阀和通气接口），可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。控制系统与炉体分开，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。
-
OTF-1500X-VHP4是一款真空热压机，可对材料在真空（或气氛保护）及高温的环境下进行加压，如把粉末压成块状，或将多层晶片压合在一起（扩散实验）。此款仪器*高温度可达到1500℃，在此温度下可对样品施加的压力为5T。仪器炉体设计为开启式，炉管采用美国进口的莫来石管，模具为石墨模具，加压装置为一20T的电动压机。炉子*高温度可以达到1500℃，可设置30段升降温程序。
-
KSL-1200X-BF6一款小型网带炉，其网带宽度为6“（150mm)。所要热处理的样品放在网带上，网带传送样品连续通过7个加热温区。此款设备是一款中式生产设备适合于薄膜、电子元件退火，光伏电池制作以及陶瓷材料或金属材料退火。