产品中心
  • VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
  • VTC-300USS是一款经济实惠的超声旋转喷涂仪,此款仪器是12英寸的真空旋转涂层机和超声喷头的结合体。喷头可以连接空气压缩机,采用气压喷射,以此与超声雾化相结合,使基片上薄膜更加均匀。
  • VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空,使样品在完全真空的状态下进行涂膜,适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用。VTC-200PV真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-200PV真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
  • VTC-50A旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式,调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达1000-8000RPM范围内都非常稳定。涂膜机在工作时设有两个阶段,分别为低转速时间T1阶段与高转速时间T2阶段,在低转速阶段使薄膜液体逐渐分散开,完成注胶的过程,在高转速阶段使薄膜液体在基片表面均匀分散开,形成厚度均匀的薄膜,完成匀胶的过程,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束。
  • VTC-200P真空涂层机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
  • 微型吸盘与VTC-100配用,是针对微小样片的固定而设计。选用上等塑胶制作而成,具有操作方便,吸附稳定的优点。
  • ZKXB-B真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件,能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。
  • ZKXB-A真空吸笔用于在实验过程中取放平面微小样件,能够避免使用镊子等传统工具对样件造成损坏。可与VTC-100旋转涂膜机及微型吸盘配套使用。
  • VTC-50型 旋转涂膜机(原型号TC-100) 能够瞬间提供可控高旋转速度,迅速将液体、胶状体等材料在衬底上成膜。由于采用铸铝结构,在高转速下运行平稳。
  • VTC-200真空旋转涂膜机主要应用于实验室中薄膜的快速形成;VTC-200 真空旋转涂膜机是利用涂层机的高速旋转,使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀的涂覆在样品的表面,适合于大专院校、科研院所、工矿企业使用。
  • VTC-100真空旋转涂膜机主要应用于实验室中薄膜的形成;利用涂层机的高速旋转,使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀的涂覆在样品的表面,适合于大专院校、科研院所、工矿企业使用。