产品中心
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PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合**一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地**有机化合物。
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PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合**一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地**有机化合物。
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PDC-36G 等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下，去除速率*大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理，对生长具有显著的作用 。
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PCE-80是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 8.5 "dia x 12“"L的石英腔体，采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。此款设备主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等）。对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。
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PCE-500W是一款较大型的500W等离子刻蚀清洗机，等离子腔体为 8.5 "dia x 14.4"L的石英腔体，采用的射频电源频率为13.56MH，功率0 -500W连续可调节。此款设备功率高，可用于等离子刻蚀、等离子灰化、表面改性以及材料掺杂改性等应用，对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。
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此系列数码超声波清洗机主要运用于电子、机械、光学、珠宝、汽保、医药、电镀、涂装及真空镀膜前处理等行业。特别适用于表面形状复杂的零件，如对工件上的狭缝、凹槽、深孔、盲孔的清洗；同时能够清洗掉零件表面油污、锈蚀及氧化物，现清洗****。
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VGT-2227QTD超声波清洗机主要运用于电子、机械、光学、珠宝、汽保、医药、电镀、涂装及真空镀膜前处理等行业。特别适用于表面形状复杂的零件，如对工件上的狭缝、凹槽、深孔、肓孔的清洗。同时能够清洗掉零件表面油污、锈蚀及氧化物。实现清洗****。
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紫外臭氧清洗机是一种不需要任何的溶剂的干式清洗技术，同时对清洗表面没有损伤。大功率低压石英汞灯，产生185nm和254nm波长紫外线，去除石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。紫外臭氧清洗机提供一种高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一种非常重要的技术。 应用于：表面处理、有机物清洗、改善表面亲水性、降低表面接触角、增加表面附着力、增强表面功函数等。
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小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术，采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵，清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，可短时间内彻底清洗掉有机污染物，清洗程度可达到分子级。另外，其样品台可选配加热功能，可加负偏压，用以实现离子蚀刻。此外，其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
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GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品，有自动控制的样品台，就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理，保证处理样品表面的一致性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台（带有真空吸盘和控制盒）。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面，可处理的样品有单晶片，光学元件和塑料等，也可在常压下进行等离子增强气相沉积。
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EQ-PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 Φ8.5 "×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。
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EQ-PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Φ160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。
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EQ-PCE-3 是微型台式等离子清洁仪，这款离子清洁仪可利用空气、氧气或氩等离子来**玻璃、半导体、高分子材料、 金属基座的表面纳米有机污染物，在高射频（RF）功率的情况下的*大有机物去除率约为10nm/min 。对材料进行涂覆镀膜前,使用本等离子清洁仪对单晶基片进行清洁能获取更好的效果。
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EQ-PDC-001是一款腔体尺寸较大的等离子清洗机，其等离子腔体尺寸为6"dia x 6.5"。特别适合对有机物和基片表面进行清洗，同时可以向腔体通入不同的气体（如氧气和惰性气体等），从而产生不同气氛的等离子体以满足实验需要。在高射频工作状态下起表面脏物移出速率高达20nm/min.对于在薄膜生长前对基片进行预处理，此款设备极为理想。
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GSL1100X-PJF-LD等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。