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  • 小型4通道管式炉
    SL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式炉，其炉管直径为Φ25mm,针对于高通量热处理实验。特别是对于合金和陶瓷热处理，其*高温度可以达到1700℃。对于在材料基因计划中探索材料相图是非常好的实验工具。
  • 1700℃小型4通道管式炉
    GSL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式炉，其炉管直径为Φ25mm,针对于高通量热处理实验。特别是对于合金和陶瓷热处理，其*高温度可以达到1700℃。对于在材料基因计划中探索材料相图是非常好的实验工具。
  • 1500℃小型管式炉
    GSL-1500X是一款通过CE认证的小型高温管式炉，其炉管为直径2" 的刚玉管，加热元件为硅碳棒。仪器本身带有两个真密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截止阀）。控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为+/-1°C，控温方式采用30段程序设置，*高温度可达到1500℃。
  • 1200℃坩埚可移动型管式炉
    OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备*高工作温度为1200℃。
  • 小型双炉体滑动管式炉
    OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器*高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现对原材料的蒸发/升华，及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热，*大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。
  • GSL-1600X 1600℃管式炉
    GSL-1600X是一款CE认证的高温管式炉，加热元件采用1700度的硅钼棒，此款设备被广泛的用于新材料样品的烧结或是退火（在真空或是惰性气体保护状态下），控温采用30段可编程智能温度调节仪，控温精度+/-1°C ，此款高温炉的*高温度1650度。