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产品型号： |
VBF-1200X-H8 |
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| 产品简介： |
VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证，其水平位置带有一个外口径 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系的要求），不会造成环境污染； 该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！ |
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| 主要特点： |
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| 技术参数： |
² 工作温度：1000℃（*高连续使用温度1000℃，极限*高使用温度1100℃*多30分钟） ² 加热元件：高质量的Ni-Cr-Al电阻丝，可加热到1100℃ ² 炉管尺寸：8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L ² 加热范围：7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter) ² 控温方式：智能化30段可编程控制 ² 恒温精度：±2℃ ² 工作电源：单相208-240 VAC 50/60HZ ² 外型尺寸：510 x 435 x 425mm ² 净重：80KG |
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| 细节描述： |
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产品规格： |
外形尺寸：510 x 435 x 425mm 净重：80KG |
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| 产品证书： |
 CE认证
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产品详情
简单介绍：
VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证，其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆，在真空或各种气氛下温度可达到1100℃，可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点，比一般的真空箱式炉更洁净，真空度能达到更高，是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。
详情介绍：
