产品详情
简单介绍:
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。
详情介绍:
技术参数
结构 |
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输入电源 |
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磁控溅射头 |
也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员联系 |
真空腔体 |
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载样台 |
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气体流量控制器
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真空泵系统 |
配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作
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薄膜测厚仪 |
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外形尺寸 |
L1300mm× W660mm× H1200mm |
重量 |
160 kg |
质保期 |
一年质保期,终生维护 |