产品中心
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采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃. 炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型. 进口加热电阻丝程序镶嵌延长炉体使用寿命. 2只莫来石绝热管塞，用来阻止红外辐射降低两端密封法兰的温度. (设备使用前必须安装绝热管塞) 石英管塞(另购件) 可提高炉管内部的洁净度和真空度 工作电压： 单相 AC 208 - 240V, 50/60Hz *高温度: 1200℃ (使用时必须通入惰性气
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OTF-1200X-5L is split 5" dia. x 55"L single-zone tube furnace which can achieve faster heating up to 1100°C. The furnace includes one 5" (125 mm) O.D fused quartz tube, one pair of vacuum sealing fla
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OTF-1200X-S是一款通过CE认证的小型管式炉，其*高工作温度为1200℃，额定功率为1200W。炉管可配置为1"或2"的高纯石英炉管，炉管两端已安装一对不锈钢法兰（法兰上已安装机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头）。此款设备允许样品在真空和气体保护下进行烧结。**温控系统包含了30段升温和降温曲线设置，其控温精度达到+/- 1°C。
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OTF-1200X-S真空小管式炉外型美观大方，结构为保温层两半开启式,集控制系统与炉膛为一体。它是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符**购商OHSMS1
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真空管式炉 VBF-1200X-H8在美国通过CE认证，其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆，在真空或各种气氛下温度可达到1100℃，可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点，比一般的真空箱式炉更洁净，真空度能达到更高，是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。
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OTF-1200X-V是一款通过CE认证的是五温区开启式管式炉，每个温区分别由五个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个控温系统都采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，采用K型omega热电偶进行温度的测量和控制，其控温精度可以达到+/-1℃。
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OTF-1500X-III是一款三温区开启式管式炉，三个温区分别用三个独立的温控系统控制，每个温区都可以设置30段升降温程序，并带有断偶和过热保护，控温精度高达+/- 1°C，仪器*高温度可以达到1500℃。此高温管式炉特别适合于在气氛保护或真空的环境下对样品进行退火和烧结。
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GSL-1400X-Ⅲ双温区管式炉以硅碳棒为发热元件，额定温度1300℃、*高温度1400℃，采用S型单铂铑热电偶测温和708P温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等，特别适合批量生产。
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GSL-1400X-Ⅱ双温区管式炉以硅碳棒为发热元件，额定温度1300℃、*高温度1400℃，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等，特别适合批量生产。
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GSL1400X真空管式高温炉以硅碳棒为发热元件，额定温度1300℃、*高温度1400℃，采用S型单铂铑热电偶测温和708P温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点，可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律
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GSL-1400X-S管式炉，内衬采用高纯度氧化铝多晶纤维在高温下真空吸附烧结成型并涂有进口氧化锆涂层，使得整体保温性能提高，30段可编程温度控制器。同时具备体积小、使用功率小、使用温度高*高可达1400℃、可在真空或气氛保护条件下使用，配备我公司生产的GZK-103真空系统*高真空度可达到10-3Pa。广泛应用于材料与化学实验室的材料制备。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法
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GSL1500X真空管式高温炉以进口硅碳棒为发热元件，额定温度1400℃，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点，可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。其性能达到国外同类产品的标准. 我公司供应的产品符合国家
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立式GSL1700X真空管式高温炉以硅钼棒为发热元件，额定温度1600℃，采用B型双铂铑热电偶测温和708P温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点，可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。
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HVF2200G80 是一个80mm（内径）x100mm（泵柱）的高温真空炉 ，石墨的*高工作温度可达到2200oC. 采用先进的电控系统，实践高精密度PID功能，可编程30段程序，每一段功率限制18KW可控硅移相调压控制加热.炉内加有循环水系统确保降温速度加快. 适应于陶瓷、冶金粉末，氧化铝，氧化硅的无氧燃烧和变色.、以及高等院校实验用。
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EQ-HVF-2100W-60 is a compact design high vacuum furnace with 60mm I.D x 80 mmH tungsten heating chamber working up to 2100oC. Temperature control is achieved with a precision Infrared thermometer and