产品中心
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GSL-1700X-HVC9是经过CE认证的80mm直径氧化铝管式炉，带有真空泵系统（*高10^-5 torr）和9通道精密数字质量流量计，可控制九种类型的气体用于CVD或扩散，并可以工作到1700℃。
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OTF-1200X-4-III-9HV是一款CE认证的九通道高真空三温区CVD系统，齐炉管直径为4英寸，它是由九通道质量流量控制器和高真空机组组成，其*高温度可达1200℃，极限真空可达to 10^-5 torr，混气系统可以对1-9种气体进行**的混气，然后导入到管式炉内部，用来研究气体环境对材料的影响。
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OTF-1200X-III-HVC是由OTF-1200X-III三温区管式炉，二路质子混气系统和高真空机组组成。其*高工作温度可达1200℃，极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行**的混气，然后导入到管式炉内部。
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高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道质量流量控制器和高真空机组组成的CVD系统，其炉管直径为4″，*高温度可达1200℃，极限真空可达 10-5 torr，混气系统可对1-9种气体进行**的混合，然后导入管式炉内部，可用来研究气体环境对材料的影响。
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高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP炉、三通道混气系统和高真空机组组成，可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3″ ）的退火，并采用 10KW的红外灯进行加热，*快升温速度可达 120℃/s，配有RS485 接口，可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。
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1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV是由单温区管式炉、两路质子混气系统和高真空机组组成，*高工作温度可达1600℃，混气系统可以对两种气体进行**的混气，然后导入管式炉内部，本系统极限真空度可达10-5 torr。
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GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统，它是由二路质子混气系统和高真空机组组成，其*高工作温度可达1600℃，极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精-确的混气，然后导入到管式炉内部。安装尺寸：管炉：550 x 380 x 520mm 高真空：550 x 380 x 520mm