产品中心
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OTF-1200X-60HV是一款通过CE认证的高真空管式炉，其炉管为直径60mm的SS-310S不锈钢管，其法兰接口为KF25接口，采用CF法兰，其真空度可达 10-6 torr 。温控系统采用PID30段程序化控温，其控温精度为 +/- 1°C
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OTF-1200X-5S是一款CE认证的小型开启式管式炉，其*高工作温度可以达到1000℃。炉管Φ130mm的高纯石英管。设备配有一对不锈钢密封法兰，可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。对于控温系统，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。此款管式炉*多可对4英寸的晶片进行退火。
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这是一个具有TGA热重分析)功能的立式管式炉，高温度从1200°C到1700°C（可定制）。与传统的TGA装置相比，可装载100 g以上的样品，为工业生产提供了更准确的结果。同时可在真空或气氛保护环境下甚至是H2环境下进行热重实验，以研究材料加工过程中的相变。TGA炉还可连接气体分析装置，研究加热过程中气体成分的变化和重量变化。
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OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高温高压管式炉，其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器，所以当管内气压高于设定值时，电磁阀会自动打开排气，使管内气压达到设定值。其炉管采用镍基合金钢管制作,其尺寸为30mm O.D x 12 mm I.D x 580 mm L。此款可在高压氧环境或惰性气体环境下对样品进行热处理，*高温度可达1100℃。所以特别是对于超导材料及介电材料的探索研究，此款小型高温高炉是一款物美价廉的实验工具。
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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4温区管式炉，所有元器件都通过了UL/MET/CSA认证。此款管式炉*高工作温度1100℃，共4个温区，每个温区长度为100mmL炉管直径为25mm或50mm，并配有一套不锈钢密封法兰，可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。每个温区由独立的温控系统控制，都可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃。
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管式炉 VBF-700X以电阻丝为加热元件，采用不锈钢罐体结构和30段程序控温，2根K型热电偶，2块智能控温仪，*高温度能达到800度，可连续工作温度700度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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SL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式炉，其炉管直径为Φ25mm,针对于高通量热处理实验。特别是对于合金和陶瓷热处理，其*高温度可以达到1700℃。对于在材料基因计划中探索材料相图是非常好的实验工具。
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GSL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式炉，其炉管直径为Φ25mm,针对于高通量热处理实验。特别是对于合金和陶瓷热处理，其*高温度可以达到1700℃。对于在材料基因计划中探索材料相图是非常好的实验工具。
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GSL-1500X是一款通过CE认证的小型高温管式炉，其炉管为直径2" 的刚玉管，加热元件为硅碳棒。仪器本身带有两个真密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截止阀）。控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为+/-1°C，控温方式采用30段程序设置，*高温度可达到1500℃。
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GSL-1600X是一款CE认证的高温管式炉，加热元件采用1700度的硅钼棒，此款设备被广泛的用于新材料样品的烧结或是退火（在真空或是惰性气体保护状态下），控温采用30段可编程智能温度调节仪，控温精度+/-1°C ，此款高温炉的*高温度1650度。
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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器*高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现对原材料的蒸发/升华，及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热，*大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。
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OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉，其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，*高压力高达21MPa，*高温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品，这是一款理想的高温管式炉。
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OTF-1200X-II是通过CE认证的双温区管式炉，其*高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID30段程序化控温。此系列管式炉可以用CVD方法来生长纳米材料和制备各种薄膜。
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GSL-1400X-II是一款CE认证的双温区高温管式炉，每个加热区长度12",由30段智能温度调采用硅碳棒作为加热元件，*高工作温度可达到1400℃。可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，此系列管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。