性能指标和基本配置 | |
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炉体结构 |
● 独特的原料推进系统可在真空或气氛保护环境下同时/依次推进3种原料进入到管式炉中(并可实时监测其温度),温度可控型原位蒸发枪,*高温度可达1350℃,适合用HPCVD法生长多层膜。 |
电源要求 |
● 单相208~240VAC |
加热区 |
● 三个加热区,每个加热区长度:300mm |
恒温区 |
恒温区长度:625mm(±2℃) |
工作温度 |
● *高工作温度:1200℃(<1hr) |
升温速率 |
≤ 10°C /min |
原料推进系统&蒸发枪 |
● 独特的原料推进系统可在真空或气氛保护环境下同时/依次推进3种原料进入到管式炉中(并可实时监测其温度),利用推送系统可将3个不同蒸发源同时/依次送入3个独立的小石英管中,**地找到所需温度,保证实验**性和重复性 |
坩埚移动控制 |
● 坩埚的移动速度和移动距离通过步进电机驱动,可设定控制 |
沉积样品台 |
● 特殊设计样品台,带有手动遮挡板,放置原料交替试导致所制备样品污染 |
温度控制系统 |
● 三个温区由三个独立的温控系统控制,采用PID方式调节温度,可设置30段升降温程序 |
管式炉配置 |
● 炉管,采用高纯石英管,尺寸为Φ130(外)mm×Φ122(内)mm×1200mm(长) |
真空计 |
● 防腐型复合真空计(皮拉尼和隔膜规) |
真空泵&真空度 |
● 真空度:10E-2 torr(采用机械泵),10-E5 torr(采用分子泵) |
气体流量控制系统 |
配有4通道气体流量控制系统,采用触摸屏设定参数 |
循环水冷机 |
设备采用水冷不锈钢密封法兰,所以配有循环水冷机 |
设备尺寸 |
4000×600×1500m |
国家砖利 |
砖利名称:一种小型热等静压炉装置 |
质量认证 |
● CE认证 |
保修期 |
一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 |
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