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  • 产品名称：卷对卷石墨烯制备管式炉系统

  • 产品型号：OTF-1200X-II-PE-RR
  • 产品厂商：MTI
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简单介绍：
OTF-1200X-II-PE-RR是一套卷对卷石墨烯制备管式炉系统，设备由卷对卷铜箔收放密封装置、500W等离子源、1200℃双温区管式炉、三路质子流量计控制系统、真空机组5部分组成。此设备可用于大面积、高质量石墨烯及其他二维材料的规模化生长 。
详情介绍：
性能指标和基本配置
1200℃双温区管式炉

● 工作电源：AC220V，50/60Hz
● 功率：3KW
● 加热元件：电阻丝
● *高温度：1200℃ (使用时必须通入惰性气体以防止炉管发生形变)
● 长期使用温度：1100℃
● 推荐升温速率:≤ 20℃ /min
● 炉管：高纯石英管：φ80*1400mm
● 总加热区长度：400mm
● 恒温区长度：200mm
● PID控温，具有超温及断偶保护
● 控温精度：±1℃

500W等离子源

● 输出功率：50-500W*大可调±1%
● RF频率： 13.56MHz，稳定性±0.005%
● 噪声：≤55DB
● 冷却：风冷
● 输入功率：1KW  AC 220V

三路质子流量计控制系统

● 电压：AC220V/50Hz
● 功率：23W
● PLC触摸屏控制
● 混气罐尺寸：φ80*120mm
● 工作温度：5~45 ºC
● *大压力: 3x106 Pa
● 精度: ±1.5% FS
● 线性: ±（0.5-1.5）%F.S.
● 重复精度: ±0.2%F.S.
● 流量范围:
● 一路: 1~50 SCCM （甲烷标定）
● 二路: 1~200 SCCM （氢气标定）
● 三路: 1~200 SCCM （氩气标定）
气体种类标定根据客户要求可以进行其它选择

真空测量单元

● 型号：PGC-554-LD
● 显示范围：3.8E-5 to 1125 Torr
精度：
● 5×10-4 … 1×10-3 mbar (N2) % of reading ±50
● 1×10-3 … 100 mbar (N2) % of reading ±15
● 100 … 950 mbar % of reading ±5
● 950 … 1050 mbar % of reading ±2.5

低真空机组（标配）

● 由双旋机械泵、双层立式油雾过滤器（PE材质）、电阻真空计以及连接管道接头等组成
● 真空泵抽气速率≥4.4L/s
● 极限真空度10-1Pa
● 真空计测量范围10-1Pa-105 Pa

压力恒定控制系统（选配）

压力恒定控制范围(进气气氛为氩气)：
● 760mtorr（100Pa）-----225torr（30000Pa）（按照进气量为500sccm）
● 600mtorr（80Pa）-----200torr（26660Pa）（按照进气量为300sccm）
● 300mtorr（40Pa）-----185torr（24660Pa）（按照进气量为100sccm）
● 180mtorr（24Pa）-----100torr（13333Pa）（按照进气量为50sccm）
压力恒定控制精度：
● 180mtorr-----2.5torr（±%10）
● ＞2.5torr-----10torr（±%40）
● ＞10 torr------200torr（±%5）

卷对卷铜箔收放密封装置

● 采用卷对卷收放卷机构进行铜箔的移动进出料，铜箔的移动速度为1-400mm/min可调；
● 配置一卷约5公斤重的铜箔，铜箔宽度：65mm，铜箔厚度0.025mm；
● 收放卷机构别放置于管式炉两端真空腔体内，保证铜箔可在密封生长条件下进行运动，实现大规模制备 。
● 收卷机构与管式炉之间设置冷却装置用于铜箔的快速冷却。
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石英气体喷嘴

可选配石英气体喷嘴，将反应气体与缓冲清洗气体分开通入，可有效减少副反应发生，实现**CVD工艺，如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺（ALC CVD）或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。
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产品尺寸

2400*600*1250mm
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产品重量

260kg

质量认证

电器元件可选择通过CE认证

保修期 一年保修，终身技术支持。
特别提示：
1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
点击查看售后服务承诺书。
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